Фториды YbF3 в Минске

Модель:tm2409590
0 р.

Фториды YbF3 — иттербий трифторид для оптических и лазерных систем

Фторид иттербия (YbF) — неорганическое соединение редкоземельного металла иттербия с фтором, выпускаемое в виде порошка высокой чистоты, гранул и спеченных мишеней. Материал востребован в производстве фторидных оптических элементов, работающих в диапазоне 0,3–10 мкм, включая ИК-область, где традиционные оксидные материалы демонстрируют значительное поглощение. YbF характеризуется низким показателем преломления (1,52 на длине волны 1 мкм), высокой прозрачностью от УФ до дальнего ИК и термической стабильностью до 800 C в инертной атмосфере.

Основное применение YbF — осаждение просветляющих и защитных покрытий на подложки из халькогенидных стекол, германия, кремния и селенида цинка. Такие покрытия используются в тепловизионных камерах, инфракрасных спектрометрах, лидарах и системах ночного видения. В лазерной технике YbF выступает легирующей добавкой в фторидных матрицах (LiYF, CaF) для создания активных сред с диодной накачкой на длинах волн 1,03–1,05 мкм.

Технические характеристики YbF

Материал поставляется с чистотой 99,9–99,99 % (3N–4N) по редкоземельным примесям. Контролируемые параметры включают гранулометрический состав (1–5 мкм для испарительных процессов, 3–10 мм для гранул), содержание кислорода и влаги, а также насыпную плотность. Для вакуумного напыления применяются таблетированные формы, обеспечивающие стабильную скорость испарения при электронно-лучевом нагреве.

ПараметрЗначениеМетод контроляТипичное применениеФорма поставки
Чистота основного вещества99,99 %ICP-MSОптические покрытияПорошок 1–5 мкм
Показатель преломления (1 мкм)1,52ЭллипсометрияПросветление ИК-оптикиГранулы 3–10 мм
Температура плавления1152 CДСКЛазерные средыТаблетки 20 мм
Содержание кислорода 200 ppmВосстановительное плавлениеВакуумное напылениеМишени 50 мм

Применение в производстве оптических компонентов

При вакуумном напылении YbF формирует плотные аморфные слои с низким уровнем рассеяния. Материал совместим с испарителями на основе электронного луча и резистивных источников. Оптимальные режимы осаждения: температура подложки 150–250 C, скорость осаждения 0,5–2 нм/с, остаточное давление не выше 2 10 Па. Многослойные структуры на основе YbF/ZnS обеспечивают коэффициент пропускания более 98 % в диапазоне 8–12 мкм, что критично для тепловизионных объективов.

В лазерной технике YbF используется как компонент фторидных стекол и кристаллов с высокой концентрацией ионов Yb. Такие среды характеризуются широкой полосой усиления (40–60 нм), длительным временем жизни возбужденного состояния (1,5–2 мс) и низким квантовым дефектом, что позволяет достигать высокой эффективности при диодной накачке. Фторидные матрицы на основе YbF применяются в волоконных лазерах, усилителях и генераторах ультракоротких импульсов.

Условия эксплуатации и хранения

YbF гигроскопичен, поэтому требует хранения в герметичной таре с осушителем. При работе с порошком необходимо использовать перчатки и респиратор — вдыхание частиц редкоземельных фторидов недопустимо. Осажденные пленки устойчивы к воздействию влаги и сохраняют оптические свойства при относительной влажности до 80 %. Для продления срока службы покрытий в агрессивных средах рекомендуется нанесение защитного слоя из ZnS или YO.

Вопросы и ответы

Чем YbF отличается от других фторидов для ИК-покрытий?

По сравнению с BaF и CaF, YbF обладает более высокой механической прочностью пленок и меньшей гигроскопичностью, что увеличивает срок службы покрытий в условиях повышенной влажности.

Какая чистота YbF требуется для лазерных применений?

Для активных лазерных сред необходима чистота 99,99 % с контролем содержания ионов переходных металлов (Fe, Cu, Ni) на уровне не более 10 ppm, так как они вызывают безызлучательную релаксацию.

Можно ли использовать YbF для покрытий на германиевых подложках?

Да, YbF наносится на германий без промежуточных адгезионных слоев. Рекомендуемая температура подложки — 180–220 C для обеспечения адгезии и стабильности пленки.

Какой метод осаждения предпочтителен для YbF?

Электронно-лучевое испарение обеспечивает минимальное загрязнение пленки и стабильную скорость осаждения. Резистивное испарение допустимо для гранул малого размера, но требует тщательной дегазации.