Резистивные сплавы в порошках РС-2005 в Минске


Резистивные сплавы в порошках РС-2005: прецизионные материалы для тонкоплёночных резисторов

Порошковые резистивные сплавы марки РС-2005 — это готовая шихта на основе системы никель–хром–кремний–бор, легированная алюминием и марганцем, предназначенная для вакуумного и магнетронного напыления тонкоплёночных резистивных элементов. В отличие от проволочных и фольговых аналогов, порошок РС-2005 обеспечивает формирование однородного резистивного слоя толщиной 0,05–0,5 мкм с воспроизводимым удельным поверхностным сопротивлением в диапазоне 50–5000 Ом/ после термической стабилизации.

Технические характеристики и фракционный состав

Материал поставляется в виде газо- или водно-атомизированного порошка с гранулометрическим составом, оптимизированным под конкретный метод осаждения. Для магнетронного распыления применяют фракцию 40–100 мкм, для электронно-лучевого испарения — 100–200 мкм. Насыпная плотность составляет 3,8–4,6 г/см, содержание кислорода не превышает 0,15 % масс., что критично для стабильности температурного коэффициента сопротивления (ТКС).

ПараметрЗначениеМетод контроляВлияние на процессПримечание
Удельное сопротивление плёнки150–350 мкОмсмЧетырёхзондовый методНоминал резистораПосле отжига 400 C
ТКС2510 КТермоциклирование –60…+150 CТермостабильностьПосле стабилизации
Фракция 40–100 мкм 92 %Ситовой анализСтабильность разрядаДля магнетрона
Кислород 0,15 % масс.Восстановительное плавлениеТКС, адгезияКонтроль партии
Насыпная плотность3,8–4,6 г/смВолюмометрПодача в испаритель—

Области применения

  • Тонкоплёночные чип-резисторы типоразмеров 0402–2512 в составе SMD-линий.
  • Прецизионные резистивные сборки для АЦП и ЦАП измерительных трактов.
  • Резистивные элементы датчиков давления и тензорезисторов на мембранах из нержавеющей стали.
  • Плёночные нагреватели вакуумных камер и аналитического оборудования.
  • Резистивные слои в гибридных интегральных схемах (ГИС) и модулях СВЧ-диапазона.

Технологические режимы осаждения

Для магнетронного распыления на постоянном токе плотность мощности составляет 5–15 Вт/см при давлении аргона 0,3–0,8 Па. Электронно-лучевое испарение из тигля с водяным охлаждением ведут при ускоряющем напряжении 8–10 кВ и токе луча 0,3–0,8 А. Подложки из ситалла, оксидированного кремния или поликора нагревают до 250–350 C для обеспечения адгезии и формирования аморфной структуры плёнки. Последующий отжиг при 380–420 C в течение 30–60 мин стабилизирует ТКС и снижает внутренние механические напряжения.

Совместимость и ограничения

  • Совместим с фотолитографией по «взрывной» технологии (lift-off) при использовании позитивных резистов.
  • Не рекомендуется контакт с медными токоведущими слоями без барьерного подслоя из никеля или титана.
  • Ограниченно применим в средах с высокой влажностью без защитного пассивирующего покрытия SiO или SiN.
  • Требует вакуумной упаковки при хранении во избежание окисления поверхности частиц.

Вопросы и ответы

Какое удельное поверхностное сопротивление обеспечивает плёнка из порошка РС-2005?

После термической стабилизации при 400 C удельное поверхностное сопротивление составляет 50–5000 Ом/ в зависимости от толщины слоя и режима осаждения.

Какой фракционный состав порошка РС-2005 применяется для магнетронного распыления?

Для магнетронных систем используют фракцию 40–100 мкм с содержанием основной фракции не менее 92 %, что обеспечивает стабильность разряда и равномерность распыления.

Какой ТКС достигается на плёнках РС-2005?

Температурный коэффициент сопротивления после отжига находится в пределах 2510 К в диапазоне –60…+150 C.

Требуется ли защитное покрытие для резистивных слоёв РС-2005?

Да, при эксплуатации в условиях повышенной влажности рекомендуется пассивация слоем SiO или SiN толщиной 0,3–0,5 мкм.