Соли металлов TbF3 в Минске

Модель:tm2409602
0 р.

Соли металлов TbF3 — фторид тербия(III) для вакуумных покрытий и оптоэлектроники

Соли металлов TbF3 — это неорганическое соединение тербия с фтором, относящееся к классу фторидов редкоземельных элементов. В промышленной практике TbF3 (фторид тербия(III), CAS 13708-63-9) применяется преимущественно в виде порошка высокой чистоты или прессованных таблеток для испарения в вакуумных установках. Материал характеризуется температурой плавления 1172 C и плотностью 7,23 г/см, что определяет его поведение в процессах термического и электронно-лучевого напыления.

Технические характеристики и чистота

Для применения в оптике и микроэлектронике фторид тербия(III) поставляется с чистотой 99,9–99,99 % (3N–4N). Контролируемыми примесями выступают оксиды редкоземельных элементов (Dy, Gd, Yb), а также железо, кремний и кальций. Содержание кислорода в порошке не должно превышать 0,05 %, поскольку наличие оксидной фазы TbOF ухудшает оптическую прозрачность покрытий в ИК-диапазоне.

Гранулометрический состав порошка TbF3 для напыления обычно лежит в диапазоне 10–100 мкм. Для сублимации в вакуумных камерах используются таблетки диаметром 10–20 мм и высотой 5–10 мм, спрессованные без связующих добавок. Насыпная плотность порошка составляет 2,5–3,5 г/см, что необходимо учитывать при расчёте загрузки испарителя.

ПараметрЗначение для TbF3 3NЗначение для TbF3 4NМетод контроляПрименение
Чистота основного вещества99,9 %99,99 %ICP-MSОптические покрытия
Содержание кислорода 0,05 % 0,02 %Анализ на O/NИК-оптика
Размер частиц20–80 мкм10–50 мкмЛазерная дифракцияЭлектронно-лучевое напыление
Температура плавления1172 C1172 CДСКТермическое испарение

Применение в вакуумной металлургии и оптике

Основная область использования TbF3 — формирование тонкоплёночных покрытий методом резистивного и электронно-лучевого испарения в вакуумных установках типа ВУ-1А, ВУ-2М и УВН-71П-3. Материал испаряется из вольфрамовых и молибденовых лодочек при температуре 1100–1250 C без разложения, что обеспечивает стехиометрический состав плёнки. Скорость осаждения при токе испарителя 150–200 А достигает 2–5 нм/с.

Покрытия из TbF3 применяются в следующих системах:

  • просветляющие и отражающие многослойные интерференционные покрытия для ИК-оптики ( = 3–12 мкм);
  • активные среды твердотельных лазеров на основе фторидных стёкол;
  • сцинтилляционные детекторы рентгеновского излучения в медицинской диагностике;
  • защитные слои в оптоэлектронных преобразователях и фотокатодах;
  • легирующие добавки при производстве фторидных оптических волокон.

В металлургии редкоземельных элементов TbF3 используется как компонент электролитных расплавов при получении металлического тербия и его сплавов с железом и кобальтом. В этом процессе фторид тербия(III) выполняет функцию источника тербия в электролизёрах с расплавленным фторидным электролитом при температуре 950–1050 C. Выход по току при плотности тока 0,5–1,0 А/см составляет 70–85 %.

Условия хранения и требования безопасности

Фторид тербия(III) относится к веществам 2-го класса опасности. При контакте с влагой воздуха возможен гидролиз с выделением фтористого водорода, поэтому материал хранят в герметично закрытой таре из полиэтилена или фторопласта в сухих помещениях при температуре не выше 30 C и относительной влажности не более 60 %. Срок хранения в заводской упаковке — 12 месяцев с даты изготовления.

При работе с TbF3 необходимо использовать средства индивидуальной защиты органов дыхания (респираторы типа «Лепесток»), защитные очки и перчатки из нитрилового каучука. Предельно допустимая концентрация фтористого водорода в воздухе рабочей зоны — 0,5 мг/м. Утилизация отходов производится путём перевода в нерастворимые фториды кальция с последующим захоронением на специализированных полигонах.

Вопросы и ответы

Чем TbF3 отличается от оксида тербия TbO при напылении?

Фторид тербия(III) испаряется конгруэнтно без диссоциации, что позволяет получать плёнки с точным воспроизведением стехиометрии. Оксид тербия TbO при нагреве частично разлагается с выделением кислорода, что приводит к образованию дефектов в покрытии и ухудшению оптических характеристик.

Какая чистота TbF3 требуется для лазерных применений?

Для активных сред лазеров и сцинтилляторов используется фторид тербия(III) чистотой 99,99 % (4N). Примеси железа и кремния в концентрации выше 10 ppm вызывают паразитное поглощение в видимом и ближнем ИК-диапазоне.

В каких тиглях можно испарять TbF3?

Рекомендуются тигли из вольфрама, молибдена или графита высокой плотности. При температуре испарения 1200 C фторид тербия не взаимодействует с этими материалами, что обеспечивает срок службы испарителя не менее 20 циклов.

Как контролировать толщину плёнки TbF3 в процессе напыления?

Используются кварцевые измерители толщины с частотой 5–6 МГц. Для плёнок толщиной 0,5–2 мкм погрешность контроля составляет 2 % при условии стабилизации температуры подложки в диапазоне 150–250 C.