Вольфрамовая лента Х-К в Минске

Вольфрамовая лента Х-К: характеристики, марки и применение

Вольфрамовая лента Х-К — это холоднокатаный металлический полуфабрикат из вольфрама технической чистоты, поставляемый в виде тонкой полосы с нормированной толщиной и шириной. Буквенное обозначение «Х-К» указывает на способ обработки: холодная прокатка с последующим отжигом для снятия внутренних напряжений. Материал сохраняет высокую плотность — 19,25–19,3 г/см — и температуру плавления около 3422 C, что определяет его применение в условиях экстремального нагрева.

Лента выпускается толщиной от 0,05 до 1,0 мм и шириной от 5 до 200 мм. Предельное отклонение по толщине нормируется в пределах 5 % для тонких сечений и 3 % для ленты свыше 0,3 мм. Кромка формируется продольной резкой с шероховатостью Rz 10–20 мкм.

Технические параметры вольфрамовой ленты Х-К

Марки и состояние поставки

Вольфрамовая лента Х-К изготавливается из марок вольфрама технической чистоты с содержанием основного элемента не менее 99,9 %. Основные варианты:

• ВЧ — вольфрам чистый, содержание примесей не более 0,1 %
• ВА — вольфрам с присадкой алюминия для стабилизации структуры
• ВТ — вольфрам технический с регламентированным содержанием кремния и углерода
• ВМ — вольфрам с присадкой молибдена для повышения жаропрочности

Лента поставляется в отожжённом состоянии с рекристаллизованной структурой зерна 10–50 мкм. Поверхность — светлая, без окалины, допускается матовая шероховатость после травления. Поставка осуществляется в рулонах или мерных отрезках длиной до 1000 мм.

Применение вольфрамовой ленты Х-К

Благодаря сочетанию тугоплавкости и стабильности геометрии лента Х-К востребована в следующих областях:

• Нагревательные элементы вакуумных печей сопротивления с рабочей температурой до 2500 C
• Катоды и испарители в установках электронно-лучевого напыления
• Экраны тепловой защиты в реакторах CVD-осаждения
• Токоподводы и держатели вольфрамовых тиглей в установках зонной плавки
• Мишени для магнетронного распыления в микроэлектронном производстве
• Компоненты рентгеновских трубок и ускорителей частиц

В каждом случае лента Х-К работает в условиях высоких температур и требует защиты от окисления — эксплуатация ведётся в вакууме, аргоне или водороде. Контакт с кислородом при температуре выше 400 C приводит к интенсивному образованию летучего триоксида вольфрама.

Технологические особенности

Холодная прокатка вольфрама Х-К выполняется при температуре ниже температуры рекристаллизации, что обеспечивает высокую плотность и отсутствие внутренних дефектов. После прокатки лента проходит отжиг в водородной среде при 1200–1400 C. Готовый материал обладает анизотропией механических свойств: предел прочности вдоль направления прокатки на 10–15 % выше, чем поперёк.

При монтаже лента Х-К не требует предварительного подогрева, но при гибке радиус должен составлять не менее 5 толщин во избежание образования трещин. Резка выполняется лазером или электроэрозионным методом.

Вопросы и ответы